Abbildung 6: Spatial release from masking (SRM) aus S0N0 und S0N60 der drei Messkonditionen: 1. Freifeld, 2. RT 390 ms (80 % Absorption), 3. RT 580 ms (60% Absorption)
Abbildung 6: Spatial release from masking (SRM) aus S0N0 und S0N60 der drei Messkonditionen: 1. Freifeld, 2. RT 390 ms (80 % Absorption), 3. RT 580 ms (60% Absorption)